第167章 光刻机技术的进展(第1/3 页)

随着戴儿公司那笔五万套固态硬盘订单的到来，天宇科技上下一片忙碌景象。林宇深知，要满足如此大规模的订单需求，提高生产效率是关键，而光刻机生产线的数量严重制约着芯片的生产速度。目前公司仅有三套光刻机生产线，这远远不足以应对即将到来的巨大生产压力。

林宇决定前往姜老他们的实验室。姜老带领的团队一直在进行着光刻机技术的研发工作，之前林宇已经将100纳米光刻机技术以及EUV光源技术交给了他们，他迫切地想要知道现在的研发进程。

林宇走进实验室，一股浓厚的科研氛围扑面而来。各种精密仪器有序地摆放着，技术人员们专注地在各自岗位上忙碌着。姜老正在一台复杂的设备前，仔细地观察着数据。

“姜老，您好。”林宇恭敬地打招呼。

姜老抬起头，看到是林宇，脸上露出了和蔼的笑容：“小林啊，你今天怎么有空过来了？”

林宇说道：“姜老，是这样的。公司刚刚接到了一个大订单，需要大量的芯片。但是我们现有的光刻机生产线数量有限，所以我来看看上次给您的100纳米光刻机技术研发得怎么样了。”

姜老点了点头，带着林宇来到一个展示台前，台上摆放着一些光刻机的关键部件模型。

“小林啊，自从你给了我们100纳米光刻机技术和EUV光源技术后，我们的研发进展还是比较顺利的。你看，这是我们对光刻机的镜头部分的改进成果。”姜老拿起一个镜头模型，递给林宇。

林宇仔细地看着镜头模型，发现它的工艺非常精细。姜老解释道：“这个镜头的分辨率已经能够达到100纳米级别了，我们采用了新的光学材料和制造工艺，大大提高了镜头对光线的聚焦能力，从而提高了成像的分辨率。”

林宇心中一喜：“姜老，这真是个了不起的成果啊。那其他部分呢？”

姜老又指着旁边的一个设备模型说：“这是我们对光刻机的工作台部分的改进。我们通过优化传动系统和定位系统，使工作台的移动精度能够达到亚微米级别。这样在芯片制造过程中，就能更精准地进行光刻操作。”

林宇对这些成果非常满意：“姜老，您和您的团队真的很厉害。那目前整个100纳米光刻机的研发，还面临哪些问题呢？”

姜老的表情变得严肃起来：“小林啊，虽然我们取得了一些成果，但仍然面临不少挑战。首先是EUV光源的稳定性问题，虽然你给了我们EUV光源技术，但要让它