第209章 计算机辅助光刻掩膜工艺(第3/3 页)
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约翰-摩尔先生就说过，同样面积的计算机芯片上，集成的晶体管数量，每隔18个月到24个月就会增加一倍，而我们从传统刻图缩微制版工艺到如今掌握成熟的计算机辅助设计光刻掩膜工艺，已经用了整整七年的时间，我们本来还能够走得更快一点的……”莫铮装模作样的说道，他虽然知道未来光刻机的技术发展方向，但对于这台GK-3型半自动光刻机来说，他肚子里的货已经快被掏空了。
“即便从摩尔定律来说，你们也已经取得了不起的成就！从采用刻图缩微制版工艺的接触式光刻机，到计算机辅助设计光刻掩膜工艺的GK-3型半自动光刻机，加工精度达到3微米，集成的晶体管数量提高了又何止10几倍？”北欧裔中年男人由衷的赞叹道。
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