第181章 光刻机，制硅，芯片(第1/5 页)

李卫东睁开眼睛，目光中闪烁着坚定的光芒。

暗暗发誓，要用自己的能力来改变这一切，要让炎国重新站在光刻机技术的最前沿。

系统的声音在他脑海中响起：

【叮！兑换成功，您已获得第一代和第二代光刻机技术。】

李卫东深吸一口气，开始仔细回顾刚刚获得的知识。

第一代光刻机，采用的是接触式曝光技术。

它通过将掩模版直接与涂有光刻胶的硅片接触，然后用紫外线照射，将图形转移到硅片上。

这种方法虽然简单直接，但由于掩模版与硅片的直接接触，容易造成损坏，且分辨率有限。

第二代光刻机则采用了近贴合式曝光技术。

它在掩模版与硅片之间保持一个很小的间隙，通过压缩空气或惰性气体填充这个间隙，既避免了直接接触带来的损坏，又提高了分辨率。

这种技术可以制造线宽达到2微米左右的集成电路，大大提升了芯片的集成度。

李卫东睁开眼睛，深邃的目光中闪烁着兴奋的光芒。

他知道，凭借这些技术，他完全可以带领团队制造出炎国自己的光刻机。

第二天一大早，李卫东就召集了研发团队的核心成员。

会议室里，每个人的脸上都写满了好奇和期待。

"同志们，"李卫东站在前方，目光炯炯有神地扫视着每一个人，"我们即将开始一项关乎国家未来的重大项目——自主研发光刻机！"

话音刚落，会议室里顿时一片哗然。

大家都知道光刻机的重要性，也清楚目前国内在这方面的短板。

"李工，这...这是真的吗？"一位年长的工程师颤抖着声音问道，眼中闪烁着激动的泪光。

李卫东郑重地点点头："是的，张工。我们不能再坐以待毙了。现在，我们有了突破性的技术，是时候追赶上去，甚至超越他们了！"

接下来，李卫东开始详细讲解光刻机的各个部件和制造流程。

从光源系统到光学系统，从对准系统到步进系统，每一个环节他都讲解得清晰明了。

团队成员们听得如痴如醉，纷纷拿出笔记本记录着这些珍贵的信息。

"记住，"李卫东特别强调道，"最关键的是光学系统。这