第106章 布局闪存(第5/8 页)

上面，这简直是痛并快乐着。

赵烨参观完晶圆厂之后，随后来到光刻机实验室。

黄昆带着秦国刚、王守武、王圩等数名技术大佬迎了过来。

“几位院士，你们好，在这里工作还顺心吗？”赵烨一脸关切的问道，语气简直要多真诚，有多真诚。

这些院士大佬们简直就是他的心肝宝贝。

国内光刻机技术能不能快速突破，就得看他们的了。

黄昆老院士笑着说道：“当然顺心，国内没有哪个地方比这里还好，什么也不要操心，一切都有专人伺候，我们只管研发就好了！”

赵烨点点头：“你们工作顺心就好，对了，黄院士，新一代光刻机的开发进度到什么程度了？”

黄昆院士笑了笑，回答道：“进度还不错，预计明年或许能够开发出新一代的光刻机，直追日本佳能和尼康的光刻机。”

顿了顿，黄昆院士侃侃而谈，仔细地为赵烨介绍道：“我们现在采用193nmarf激光光源，已经实现了光刻过程中，掩模和硅片的同步移动，并且采用了缩小投影镜头，缩小比例达到5：1，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，从而将芯片的制程和生产效率提升了一个台阶！”

赵烨对当下的光刻机以及芯片生产工艺也算比较了解，此刻听完黄昆院士的话，不由心头大喜。

干式光刻机到达193nm，就差不多到头了，想要再次突破，难度极大。前世，光刻机技术在20年内，几乎没有什么进步，都被困在这里，光学光刻技术似乎已经到了分辨率的“极限”。后来直到林本坚提出“浸润式光刻”这一具有颠覆性的技术之后，光刻机技术这才得到突破193nm。

无疆微电子公司只要开发出193nm光刻机，就跟佳能和尼康的光刻机技术相差不大了，反正之后20年，对方怎么也进步不了了。

反倒是无疆微电子公司研发浸润式光刻技术，实现弯道超车！

赵烨对众人鼓励一番，心情愉快地离开了。

……

日本。

雷克斯·艾登做好充分的调查准备之后，便开展行动。

在正式接触东芝公司之前，他先悄悄约nand闪存的发明者舛冈富士雄。

晚上7点钟，舛冈富士雄准时赴约。

雷克斯·艾登微笑着看着对方，开口道：“舛冈富士雄先生你好，我先做一下自我介绍，我叫雷斯克·艾登，目前正在为中国无疆集