第八十五章 断供(第1/3 页)

东京应化、jsr、住友化学、富士胶片占据光刻胶市场70%以上的市场份额。

光刻胶一旦断供，晶圆厂就得停工。

无疆微电子公司总不能把希望一直寄托于rb人的善良和好心，认为他们不会断供吧。

光刻胶的市场并不大，10亿美元不到，但极其重要。

前世，国内无论是光刻机，还是光刻胶，都被国外拿捏。

光刻胶的生产难度也非常高，不单单是其配方，最难攻破的还是工艺，其中，曝光设备和感光检测设备远远落后于国外。

另外，rb还在光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料领域，同样具备较高的垄断程度。

所以赵烨现在要研制光刻胶，既要研究光刻胶配方与工艺，还要投入资金研究和生产光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料，投资比较大，但是投资再大也要去做。赵烨不去做的话，国内就没有人去做了。

试想，一旦光刻胶断供，晶圆厂停工，那赵烨在无疆微电子公司投资的那么多的人力和财力，都等于是浪费了。

赵烨相信，以美国为首的西方国家，绝对能够做得出来。

所以，自力更生，才是王道。

黄昆、秦国刚、王守武、王圩等院士们很热衷于帮助赵烨建立“无疆光刻胶有限公司”。

于是，赵烨就把这件事托付给他们负责，自己最后出钱就是了。

……

光刻胶占据电子材料至高点，对于国家的发展至关重要。

上游原材料且不提，主要是中游制造，主要分为：pcb光刻胶、lcd光刻胶、半导体光刻胶三种，分别对应着下游应用：pcb产业、面板产业、半导体产业。最后则是电子产品应用终端，比如手机、家电、航空航天、汽车电子等等。

不难看出，发展光刻胶对于一个国家科研、工业产业等发展至关重要。

前世，半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线（436nm）、i线（365nm）、krf（248nm）、arf（193nm）以及新兴起的euv光刻胶5大类，高端光刻胶指krf、arf和euv光刻胶，等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度越大，性能越好。

当前的半导体制程还不那么先进，主流工艺在800-1200nm之间，因此波长436nm的光刻光源就够用。

中国在70年代就开始研究光刻胶了。